Lebih mencengangkan lagi, laporan terbaru menyebutkan bahwa SMIC kini tengah bereksperimen dengan teknik litografi yang lebih ekstrem lagi: Self-Aligned Octuple Patterning (SAOP). Jika SAQP melibatkan empat tahapan pencetakan pola, maka SAOP mengulang proses ini hingga delapan kali, untuk menciptakan pola sirkuit ultra-miniatur yang mendekati hasil dari mesin EUV generasi terbaru.
Langkah ini menandakan ambisi China yang belum padam untuk menembus batas teknologi manufaktur chip, dan mungkin suatu hari dapat menghasilkan chip 3nm secara mandiri—tanpa sentuhan teknologi dari Barat.
Apa Artinya Bagi Dunia Teknologi?
Keberhasilan ini bukan sekadar pencapaian teknis, melainkan manuver geopolitik dan industri. Dengan membuktikan bahwa pembatasan akses teknologi tinggi tidak serta-merta mematikan inovasi, China mengirim sinyal kuat bahwa mereka mampu berdiri di atas kaki sendiri dalam sektor vital seperti semikonduktor.
Dampaknya bisa sangat luas, mulai dari pergeseran rantai pasok global, munculnya persaingan baru dalam penguasaan teknologi tinggi, hingga potensi perubahan arah kebijakan ekspor negara-negara barat terhadap China.
