Sebagai perbandingan, teknologi DUV menggunakan cahaya dengan panjang gelombang sekitar 193nm, sedangkan EUV hanya 13,5nm. Artinya, EUV dapat mencetak fitur lebih kecil dengan presisi tinggi, memungkinkan miniaturisasi dan performa chip yang lebih baik. Dalam kondisi normal, pencapaian fabrikasi 5nm nyaris tidak mungkin dilakukan tanpa EUV.
Namun, dengan menerapkan proses multi-patterning yang sangat cermat dan berulang-ulang, SMIC berhasil mengejar ketertinggalan tanpa akses ke teknologi tersebut. Analis semikonduktor William Huo bahkan menyebut pendekatan ini sebagai bentuk “pemerasan maksimal” terhadap kemampuan alat-alat DUV yang ada.
SMIC Masih dalam Daftar Hitam, Tapi Tetap Melaju
Sejak Desember 2020, SMIC masuk dalam "entity list" AS, yang melarang perusahaan-perusahaan Amerika dan sekutunya untuk menjual teknologi canggih ke mereka. Termasuk dalam larangan tersebut adalah mesin EUV dari perusahaan Belanda ASML. Akibatnya, banyak pihak menduga SMIC tidak akan bisa memproduksi chip di bawah 14nm.
Namun kini, asumsi itu terbantahkan. SMIC membalik prediksi global, dan justru muncul sebagai bukti bahwa China masih bisa bersaing dalam inovasi chip, meski berada dalam tekanan geopolitik dan teknologi yang luar biasa.
Eksperimen Menuju 3nm, SAQP Jadi SAOP
