Tampang.com | Ketika Amerika Serikat memperketat sanksi ekspor teknologi semikonduktor, termasuk pelarangan penggunaan mesin litografi ekstrem ultraviolet (EUV), banyak pihak memprediksi kemajuan industri chip China akan mandek. Namun, kenyataan justru berkata lain.
Perusahaan semikonduktor terbesar di China, Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), dilaporkan berhasil memproduksi chip dengan teknologi fabrikasi 5 nanometer (nm)—sebuah pencapaian besar yang dicapai tanpa bantuan mesin EUV buatan Belanda, yang selama ini dianggap sebagai kunci utama dalam pembuatan chip kelas atas.
Manfaatkan DUV dan Teknik Multi-Patterning Ekstrem
Tanpa mesin EUV dari ASML, SMIC mengambil jalur teknis yang jauh lebih menantang: menggunakan teknologi Deep Ultraviolet (DUV) yang dipadukan dengan metode Self-Aligned Quadruple Patterning (SAQP). Ini adalah teknik litografi berulang yang sangat kompleks, yang memungkinkan pembuatan pola ultra-kecil di atas wafer silikon.
Meski secara teknis lebih rumit, mahal, dan berisiko lebih tinggi terjadi kesalahan, metode ini terbukti mampu menghasilkan chip 5nm yang fungsional. Dengan kata lain, SMIC berhasil meniru presisi EUV hanya dengan DUV, dan hal ini menjadi pukulan telak bagi strategi pembatasan teknologi oleh AS.
Perbedaan EUV dan DUV dalam Litografi Chip
