China Sukses Produksi Chip 5nm Tanpa Mesin EUV, Bikin Geger Industri Semikonduktor

Tampang.com | Ketika Amerika Serikat memperketat sanksi ekspor teknologi semikonduktor, termasuk pelarangan penggunaan mesin litografi ekstrem ultraviolet (EUV), banyak pihak memprediksi kemajuan industri chip China akan mandek. Namun, kenyataan justru berkata lain.

Perusahaan semikonduktor terbesar di China, Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), dilaporkan berhasil memproduksi chip dengan teknologi fabrikasi 5 nanometer (nm)—sebuah pencapaian besar yang dicapai tanpa bantuan mesin EUV buatan Belanda, yang selama ini dianggap sebagai kunci utama dalam pembuatan chip kelas atas.

Manfaatkan DUV dan Teknik Multi-Patterning Ekstrem

Tanpa mesin EUV dari ASML, SMIC mengambil jalur teknis yang jauh lebih menantang: menggunakan teknologi Deep Ultraviolet (DUV) yang dipadukan dengan metode Self-Aligned Quadruple Patterning (SAQP). Ini adalah teknik litografi berulang yang sangat kompleks, yang memungkinkan pembuatan pola ultra-kecil di atas wafer silikon.

Meski secara teknis lebih rumit, mahal, dan berisiko lebih tinggi terjadi kesalahan, metode ini terbukti mampu menghasilkan chip 5nm yang fungsional. Dengan kata lain, SMIC berhasil meniru presisi EUV hanya dengan DUV, dan hal ini menjadi pukulan telak bagi strategi pembatasan teknologi oleh AS.

Perbedaan EUV dan DUV dalam Litografi Chip

Sebagai perbandingan, teknologi DUV menggunakan cahaya dengan panjang gelombang sekitar 193nm, sedangkan EUV hanya 13,5nm. Artinya, EUV dapat mencetak fitur lebih kecil dengan presisi tinggi, memungkinkan miniaturisasi dan performa chip yang lebih baik. Dalam kondisi normal, pencapaian fabrikasi 5nm nyaris tidak mungkin dilakukan tanpa EUV.

Namun, dengan menerapkan proses multi-patterning yang sangat cermat dan berulang-ulang, SMIC berhasil mengejar ketertinggalan tanpa akses ke teknologi tersebut. Analis semikonduktor William Huo bahkan menyebut pendekatan ini sebagai bentuk “pemerasan maksimal” terhadap kemampuan alat-alat DUV yang ada.

SMIC Masih dalam Daftar Hitam, Tapi Tetap Melaju

Sejak Desember 2020, SMIC masuk dalam "entity list" AS, yang melarang perusahaan-perusahaan Amerika dan sekutunya untuk menjual teknologi canggih ke mereka. Termasuk dalam larangan tersebut adalah mesin EUV dari perusahaan Belanda ASML. Akibatnya, banyak pihak menduga SMIC tidak akan bisa memproduksi chip di bawah 14nm.

Namun kini, asumsi itu terbantahkan. SMIC membalik prediksi global, dan justru muncul sebagai bukti bahwa China masih bisa bersaing dalam inovasi chip, meski berada dalam tekanan geopolitik dan teknologi yang luar biasa.

Eksperimen Menuju 3nm, SAQP Jadi SAOP

Lebih mencengangkan lagi, laporan terbaru menyebutkan bahwa SMIC kini tengah bereksperimen dengan teknik litografi yang lebih ekstrem lagi: Self-Aligned Octuple Patterning (SAOP). Jika SAQP melibatkan empat tahapan pencetakan pola, maka SAOP mengulang proses ini hingga delapan kali, untuk menciptakan pola sirkuit ultra-miniatur yang mendekati hasil dari mesin EUV generasi terbaru.

Langkah ini menandakan ambisi China yang belum padam untuk menembus batas teknologi manufaktur chip, dan mungkin suatu hari dapat menghasilkan chip 3nm secara mandiri—tanpa sentuhan teknologi dari Barat.

Apa Artinya Bagi Dunia Teknologi?

Keberhasilan ini bukan sekadar pencapaian teknis, melainkan manuver geopolitik dan industri. Dengan membuktikan bahwa pembatasan akses teknologi tinggi tidak serta-merta mematikan inovasi, China mengirim sinyal kuat bahwa mereka mampu berdiri di atas kaki sendiri dalam sektor vital seperti semikonduktor.

Dampaknya bisa sangat luas, mulai dari pergeseran rantai pasok global, munculnya persaingan baru dalam penguasaan teknologi tinggi, hingga potensi perubahan arah kebijakan ekspor negara-negara barat terhadap China.